-
Керамички резервни делови за полупроводничка опрема за сонди
Формирани со ладно изостатско пресување и синтерувани под висока температура, потоа прецизно обработени и полирани, керамичките резервни делови можат да ги задоволат сите строги барања на полупроводничката опрема со нејзините карактеристики на отпорност на абење, отпорност на корозија, ниска термичка експанзија и изолација. Керамиката може да се користи во многу видови опрема за производство на полупроводници под услови на висока температура, вакуум или корозивен гас долго време.
Направен од прав од алумина со висока чистота, обработен со ладно изостатско пресување, синтерување на висока температура и прецизна завршна обработка, може да достигне толеранција на димензии од ± 0,001 mm, завршна обработка на површината Ra 0,1, отпорност на температура 1600℃.
-
Носач на опрема од керамички плочи со полупроводнички елементи
Формирани со ладно изостатско пресување и синтерувани под висока температура, потоа прецизно обработени и полирани, керамичките резервни делови можат да ги задоволат сите строги барања на полупроводничката опрема со нејзините карактеристики на отпорност на абење, отпорност на корозија, ниска термичка експанзија и изолација. Керамиката може да се користи во многу видови опрема за производство на полупроводници под услови на висока температура, вакуум или корозивен гас долго време.
Направен од прав од алумина со висока чистота, обработен со ладно изостатско пресување, синтерување на висока температура и прецизна завршна обработка, може да достигне толеранција на димензии од ± 0,001 mm, завршна обработка на површината Ra 0,1, отпорност на температура 1600℃.
-
Полупроводничка опрема Керамички резервни делови
Формирани со ладно изостатско пресување и синтерувани под висока температура, потоа прецизно обработени и полирани, керамичките резервни делови можат да ги задоволат сите строги барања на полупроводничката опрема со нејзините карактеристики на отпорност на абење, отпорност на корозија, ниска термичка експанзија и изолација. Керамиката може да се користи во многу видови опрема за производство на полупроводници под услови на висока температура, вакуум или корозивен гас долго време.
Направен од прав од алумина со висока чистота, обработен со ладно изостатско пресување, синтерување на висока температура и прецизна завршна обработка, може да достигне толеранција на димензии од ± 0,001 mm, завршна обработка на површината Ra 0,1, отпорност на температура 1600℃.
-
Керамички прстен за заптивање од алуминиум оксид со висока чистота за заптивање на комора на висока температура
Керамичкиот заптивен прстен на St.Cera е дизајниран како алтернатива на полимерните О-прстени во екстремни средини каде што еластомерите се распаѓаат. Изработен од 99,8% алуминиум оксид со висока чистота (Al₂O₃), овој цврст заптивен прстен се користи во статички апликации за заптивање - обично поврзан со мек метал или графитна заптивка - за да обезбеди сигурно вакуумско или гасно задржување на температури до 800°C и во агресивни плазма или хемиски средини. Материјалот нуди нула испуштање гасови, висока компресивна цврстина (основна цврстина на свиткување 361 MPa) и хемиска инертност (отпорен на халогени, киселини и алкалии освен HF). Прецизно обложените површини за заптивање (рамност ≤5 μm, површинска грубост Ra ≤0,2 μm) обезбедуваат непропустлив контакт со спојните метални или керамички компоненти.
-
Фокусен прстен од комора со висока чистота од алуминиум оксид за системи со плазматско гравирање и CVD
Фокусниот коморен прстен на St.Cera е критична компонента на комплетот за процесирање што се користи во опрема за плазматско јодирање, CVD и PVD полупроводничка опрема. Изработен од 99,8% високочистота алумина (Al₂O₃), прстенот го опкружува работ на плочката за да ја ограничи плазмата и да ја оптимизира аголната распределба на јоните, со што се подобрува униформноста на јодирањето низ површината на плочката. Материјалот нуди исклучителна отпорност на плазма, висока диелектрична цврстина (15×10⁶ V/m) и термичка стабилност до 1600°C, обезбедувајќи долгорочна сигурност во агресивни средини со плазма базирана на флуор или хлор. Прецизното заземјување на ID/OD и рамноста (≤10 μm) овозможуваат прецизно позиционирање на работ на плочката, намалувајќи ги дефектите на работ и генерирањето на честички.
-
Керамички прстен од алумина со висока чистота за CVD / PVD процесни комори
Керамичкиот прстен на St.Cera е специјално дизајниран за употреба во процесни комори со CVD (хемиско таложење на пареа) и PVD (физичко таложење на пареа). Изработен од 99,8% алуминиум оксид со висока чистота (Al₂O₃), овој прстен служи како облога на комората, фокусен прстен или компонента на комплетот за процесирање за ограничување на плазмата и заштита на ѕидовите на комората од ерозија. Материјалот нуди одлична отпорност на плазма, висока диелектрична цврстина (15×10⁶ V/m) и термичка стабилност до 1600°C, обезбедувајќи долг работен век во агресивни средини со плазма базирана на флуор. Прецизните димензионални толеранции (±0,05 mm на ID/OD) и рамноста (≤10 μm) овозможуваат конзистентно позиционирање на работ на плочата, подобрувајќи ја униформноста на таложењето и намалувајќи го генерирањето на честички.
-
Керамички ефектор на крај Bernoulli — безконтактно ракување со плочки за тенки и кршливи плочки
Керамичкиот краен ефектор Bernoulli од St.Cera користи аеродинамичен лифт за ракување со плочки без физички контакт. Изработен од високочистота од 99,8% алумина (Al₂O₃) или силициум карбид (SiC), има прецизно обработени млазници кои исфрлаат гас под притисок за да создадат тенок воздушен филм помеѓу крајниот ефектор и плочките. Овој принцип на бесконтакт ја елиминира контаминацијата на задната страна, кршењето на рабовите и оштетувањето на површината, што го прави идеален за тенки (≤100 μm), кршливи или искривени плочки. Керамичката подлога обезбедува висока цврстина на свиткување (361 MPa за Al₂O₃; до 550–600 MPa за SiC), мала маса и одлична димензионална стабилност, обезбедувајќи повторливо позиционирање во роботи за пренос на плочки со голема брзина.
-
Керамички делови од алуминиумска оксид со висока чистота за полупроводнички и индустриски апликации
„Ст.Цера“ произведува прецизно обработени керамички делови од алумина (Al₂O₃) според спецификациите на клиентите. Користејќи 99,8% алумина со висока чистота, овие компоненти обезбедуваат одлична цврстина на свиткување (361 MPa), висока тврдост (16 GPa) и извонредна диелектрична цврстина (15×10⁶ V/m). Дизајниран за полупроводничка опрема, склопови отпорни на абење, електрични изолатори и тела за висока температура, материјалот нуди речиси нула апсорпција на вода (0%) и коефициент на термичка експанзија од 7,2×10⁻⁶/℃, обезбедувајќи димензионална стабилност во екстремни услови.
-
Порозна керамичка вакуумска стега за ракување со искривени плочки
Порозната керамичка стега на St.Cera е изработена од алуминиум оксид со висока чистота со униформна отворена порозност од 30–45% и големина на порите од 10 до 100 μm. За разлика од конвенционалните жлебовити стегачи, порозната површина обезбедува дистрибуиран вакуум низ целата задна страна на плочката, ефикасно држејќи искривени, тенки или единечни плочки без подигнување на рабовите или кршење. Нежниот вакуум (може да се прилагоди преку ограничувач) исто така спречува обележување на задната страна.
-
Порозен керамички вакуумски стегач на база на алумина за ракување со тенки плочки
Порозната стега на база на алумина од St.Cera е изработена од 99,6% Al₂O₃ со висока чистота со контролирана отворена порозност од 30–45% и униформна големина на порите од 10 до 50 μm. За разлика од жлебовите стегачи, порозната површина обезбедува дистрибуиран вакуум низ целата задна страна на плочката, елиминирајќи го обележувањето на рабовите и овозможувајќи нежно држење на ултратенки (≤100 μm) или искривени плочки. Материјалот нуди цврстина на свиткување ≥250 MPa и термичка стабилност до 400°C во воздух.
-
Плоча за дистрибуција на гас од алуминиум за CVD/PVD туш глава
Плочата за дистрибуција на гас (туш глава) на St.Cera е прецизно изработена од високочистота 99,8% алумина керамика. Има низа микродупки (дијаметар 0,3–1,5 mm) кои обезбедуваат рамномерен проток на гас низ површината на плочката за време на CVD, PVD или ALD процесите. Високата диелектрична цврстина на плочата (>15×10⁶ V/m) и отпорноста на плазма ја прават неопходна за таложење на полупроводнички тенок филм.
-
Керамички потпорен игла за полупроводнички процесни тела
Керамичките потпорни иглички на St.Cera (исто така познати како иглички за подигнување или потпорни иглички) се користат во полупроводнички процесни комори за подигнување на плочки или подлоги за време на ракување, загревање или ладење. Изработени од 99,8% алумина или силициум нитрид, овие иглички нудат висока компресивна цврстина, термичка стабилност и хемиска отпорност. Хемисферичниот или рамен врв спречува гребење на плочките.
